会议专题

第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会

总文献量: 108篇会议类型: 国内会议会议地点: 长沙主办单位: 中国电子学会会议日期: 1999-11-01

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用磁过滤弧生长的ｔａ－Ｃ膜

田人和王广甫吴瑜光

ＥＣＲｐｌａｓｍａＣＶＤ法淀积非晶硅工艺的研究

谭满清

１／４环管过滤效率的计算机模拟

刘春邹积岩

高品质激光雕刻工艺研究及应用

叶建

电子束自动对准、自动调焦、自动消像散的物理研究

周开宇

ＳＯＩ—突破硅材料与硅集成电路限制的新技术

林成鲁

激光半导体工艺及光控硅腐蚀的研究

宋登元李宝通王小平

合肥Ｗｉｇｇｌｅｒ光源用于深度同步辐射光刻特性计算

田扬超田学红刘刚

钛薄膜的氢化及热释放特性的研究

施立群周筑颖赵国庆

ＤＢ７亚微米电子束曝光机计算机控制系统

郭忠君

２１世纪的硅微电子技术

王阳元张兴

ＮＩＣＰ刻蚀设备及工艺研究

韩阶平魏珂田如江刘辉

用于光刻滤波器的设计研究

陈旭南罗先刚姚汉民

ＤＹ－７型深亚微米电子束曝光系统的研究

王理明张福安薛虹顾文琪

背面对准Ｘ射线光刻掩模制作研究

刘泽文刘理天李志坚

用于环形照明光刻的滤波技术研究

罗先刚姚汉民陈旭南冯伯儒

强流离子加速管束流传输特性的计算分析

陈林

离子源机理及调试浅析

刘咸成

离子注入机小型化设想

郑新根郭健辉

ＬＣ１３强流氧离子注入机真空系统的设计

肖仁耀