会议专题

全国薄膜学术讨论会

总文献量: 76篇会议类型: 国内会议会议地点: 上海主办单位: 中国真空学会;中国电子学会;中国光学学会;中国物理学会;中国机械工程学会;中国仪器仪表学会;中国材料研究会会议日期: 1999-10-01

文章浏览

涂层基镀质量及其影响因素

刘际伟胡贵生

磁控溅射靶材

夏慧吴丽君韩雪

高清晰度投影镜头新进展

杜旭日郭亨群

彩色显象管用多功能镀膜机的研制

卜忍安王文江张劲涛

科技进步与经济发展

马俊如

CH<,4>和C<,6>H<,6>为原料制备类金刚石薄膜的最佳成膜条件的比较研究

严学俭梁风刘斌盛陵海

纳米半导体膜与纳米技术进展

林鸿溢

薄膜工艺中的低温等离子体技术

江南

大平面阴极靶磁控溅射铁磁性材料薄膜的研究

戴法震

表面工程技术的发展向

许樵府

掺杂nc-Si:H膜的显微结构与电导特性研究

彭英才刘明何宇亮

真空镀膜聚焦型太阳能热处理炉

刘剑虹陈建平

金刚石膜的制备及其应用研究--最近进展和展望

金曾孙

提高LBO晶体薄膜质量的方法

官月英

高速钢刀具Ti(C,N)复合膜的工艺研制简介

王昆林魏兴国陆峥刘桂荣曹尔妍

离子镀硬质膜技术的最新进展和展望

闻立时黄荣芳

1
2
3
4