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第六届全国固体薄膜学术会议

总文献量: 96篇会议类型: 国内会议会议地点: 成都主办单位: 中国电子学会会议日期: 1998-09-01

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1.2u集成电路生产中颗粒沾污

曾庆光

纳米硅薄膜与纳米技术进展

林鸿溢李映雪

优质单晶硅P+薄层的制备

酞菁铜薄膜超高真空生长及原位光电子谱研究

季振国陈红征

对AIAS薄层横向选择氧化速率的研究

超薄金属薄膜的电阻弛豫及其与C 60的相互作用

质子辐照对GaAs／AIGaAs多量子阱材料光学性质的影响

精确控制优质P-HEMT／Inp材料结构参数的研究

张金福梁基本

多晶碳化硅的氧化技术研究

李跃进贾护军

UHV／CVD系统外延生长锗硅碳三元合金

亓震黄靖云

8-羟基喹啉锌与硅氧化物复合引起的荧光猝灭

邓晓清张仕国

uHV／CVD生长SiGe组分渐变缓冲层的应变驰豫★

一种玻璃碳薄膜的制备及分析

王君林邹广田

多晶硅薄膜结构对多孔多晶硅薄膜发光强度的影响

黄维宁汤国英

超簿RCA氧化硅膜的特性研究

罗葵金雪林

硅基GaN外延层的调光电子能谱及二次离子质谱的研究

张昊翔叶志镇

异质结薄膜CeO 2／Si高温热退火界面扩散——反应机理研究

GaN／GaAs异质结构中大密度面缺陷的分析

韩培德杨海峰杨辉

在si衬底上化学汽相沉积大面积优质3C-SiC薄膜★

GaAs表面硫化学钝化的光调制反射谱研究

廖友贵潘士宏梁基本