半导体IC清洗技术

摘要：

介绍了半导体IC制程中存在的各种污染物类型及其对IC制程的影响和各种污染物的去除方法,并对湿法和干法清洗的特点及去除效果进行了分析比较。

关键词： 集成电路芯片 污染物去除 湿法清洗 干法清洗

作者: 李仁

作者单位: 中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京,101601

会议类型: 国内会议

会议名称: 2003中国集成电路产业发展战略研讨会暨中国半导体行业协会IC分会年会

会议地点: 苏州

会议语种:中文

页码: 84-87

在线出版日期: 2003-09-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）