溅射法制作CrSi薄膜电阻工艺技术

摘要：

本文对溅射法制作CrSi薄膜电阻工艺技术进行了研究。文章介绍了使用直流磁控反应溅射工艺攻克该难题的方法,即通过对影响电阻结构的多种工艺要素的实验归纳,寻找出了制作高方阻CrSi电阻的最佳工艺条件。

关键词： 薄膜电路 混合集成 薄膜电阻 磁控溅射

作者: 姜伟 唐俊峰

作者单位: 中国航天时代电子公司第771研究所,西安,710054

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十四届全国混合集成电路学术会议

会议地点: 安徽黄山

会议语种:中文

页码: 124-130

在线出版日期: 2005-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）