缓冲剂在电镀镍中的作用机理研究
该文利用循环伏安法研究了Watts镀镍液中镍离子的电沉积过程，对循环伏安图上的电流峰给予了合理的解释。三种缓冲剂硼酸、醋酸和氯化铵对镍的电沉积速度有显著的影响。缓冲剂浓度在0.01-O.05M范围内，随着缓冲剂浓度的增加镍的沉积速度显著增加，当缓冲剂浓度大于0.1M时，随着缓冲剂浓度的增加，镍的沉积速率几乎不再增，缓冲剂加大镍沉积速度的主要原因是，通过控制电极表面附近的pH值，使之形不成阻碍镍离子沉积的氢氧化镍沉淀。
电镀镍 缓冲剂 循环伏安 电镀
高灿柱 鹿玉理
大学环境工程系(济南)
国内会议
合肥
中文
157～159
1998-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）