应用于光刻机的掩模版传输结构

摘要：

掩模版传输是高性能光刻机的一个重要组成部分,随着光刻技术的不断发展,对其传递过程的各种要求也不断提高,同时对于实现其功能传输系统结构也得到了深入研究和应用.本文主要描述了该系统的基本构成,并针对目前国际上采用的几种典型结构进行介绍、探讨.

关键词： 版库 传输结构 光刻技术 光刻机 掩模版传输

作者: 李正贤

作者单位: 中国电子科技集团公司第45研究所(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2003中国电子制造技术论坛会

会议地点: 深圳

会议语种:中文

页码: 402-407

在线出版日期: 2003-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）