浅谈光成像抗蚀抗电镀油墨(湿膜)的曝光

摘要：

本文叙述了光成像抗蚀抗电镀油墨近几年来在不同领域的扩大应用和在使用中,对光源的选择、如何进行合理曝光、在曝光中相关工序的影响及光源和设备的发展前景.

关键词： 湿膜 曝光 网印 光能量 印制电路板 感光度

作者: 李春甫 邵磊

作者单位: 北京力拓达科技公司

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国印制电路学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 70-78

在线出版日期: 2000-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）