关键词: 厚膜工艺 正交移相器 制造工艺 性能分析
作者: 石磊 胡海年 高能武
作者单位: 信息产业部电子29所
会议类型: 国内会议
会议名称: 第十二届全国混合集成电路学术会议
会议地点: 合肥
会议语种:中文
页码: 32-34
在线出版日期: 2001-11-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)