厚膜微带技术研究

摘要：

本文论述了制作厚膜微带电路的工艺技术途径,并对其膜厚的致密性作了进一步的研究,研制的样品在11GHz下进行微波性能测试,表现出良好的特性.

关键词： 光刻 微带电路 厚膜技术 微波性能 致密性

作者: 时国忠 党耀石

作者单位: 航天机电集团公司二院二十五所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国混合集成电路学术会议

会议地点: 合肥

会议语种:中文

页码: 24-28,7

在线出版日期: 2001-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）