镀液组成对钯电沉积层内应力的影响

摘要：

采用电化学方法研究镀液组成对钯电沉积层内应力的影响。结果表明，镀液中不含添加剂、单独含FK4H及与pps共存时，镀层均呈现张应力；镀液中再加入FF及十六烷基三甲基溴化铵时。镀层则呈现压应力；在电沉积初期镀层内应力变化较大，随着沉积时间的延长而逐渐趋于稳定。脉冲电沉积所获得的钯镀层较直流的具有较低的内应力。停止电沉积后，钯镀层均呈现张应力，并随时间延长而逐渐增大。

关键词： 钯 电沉积层 内应力 镀液组成

作者: 杨防祖 许书楷

作者单位: 大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国电子学会电镀专业委员会第七届电镀年会

会议地点: 合肥

会议语种:中文

页码: 117～119

在线出版日期: 1998-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）