High dielectric constant materials and their application to IC gate stack systems
国际会议
The 8th China-Russia Symposium on New Materials and Technologies
广州
英文
42-48
2005-11-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
国际会议
The 8th China-Russia Symposium on New Materials and Technologies
广州
英文
42-48
2005-11-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）