磁控溅射Al-Zr薄膜在微拉深成形中的拉深性能

摘要：

　　拉深成形可以用来制备形状复杂的零部件，甚至可达微加工水平.采用磁控溅射方法，在基底温度分别为310K和433 K下，制备了厚度约为15μm的两种不同的Al-Zr薄膜.将这两种薄膜做为坯料，采用冲头直径为0.75 mm的微拉深设备研究其拉深性能.虽然这两种材料在拉伸试验中显示出较小的最大应变，但还是成功地实现了微拉深成形.在基底温度为310 K和433 K制备的两种材料的极限拉深比分别为1.8和1.7.这些结果比先前采用Al-Sc合金的结果要好，与采用传统轧制方法所得纯铝薄膜的拉深结果相似.结果表明，采用磁控溅射方法制备的薄膜可以用来进行微拉深成形.

关键词： Al-Zr薄膜 微拉深成形 成形极限 磁控溅射

作者: Gerrit BEHRENS Julien KOVAC Bernd K(O)HLER Frank VOLLERTSEN Heinz-Rolf STOCK

作者单位: BIAS-Bremer Institut für Angewandte Strahltechnik GmbH,Klagenfurter Str.2,D-28359 Bremen,Germany IWT-Stiftung Institut f(u)r Werkstofftechnik,Badgasteiner Str.3,D-28359 Bremen,Germany

会议类型: 国际会议

会议名称: 3rd International Conference on New Forming Technology(3rd ICNFT)第三届新成形技术国际会议

会议地点: 哈尔滨

会议语种:英文

页码: 268-274

在线出版日期: 2012-08-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）