基片偏压对电弧离子镀ZrN薄膜微结构和表面形貌的影响

摘要：

　　在不同的基片偏压下利用电弧离子镀技术制备氮化锆薄膜，以考察基片偏压对氮化锆薄膜微结构和表面形貌的影响.利用XRD、EPMA和FE-SEM等技术对不同偏压时得到ZrN薄膜的相结构、成分和表面形貌进行表征.结果表明，薄膜中存在立方氮化锆和六方纯锆相；随着基片偏压的增大，薄膜的择优取向由(111)变为(200)，最后变为(111)，晶粒尺寸由30 nm减小至15nm.同时发现，随着基片偏压的增大，薄膜微结构由明显的柱状特征变为致密的等轴晶特征，表明由偏压增强的离子轰击能有效抑制柱状晶生长；薄膜沉积速率和锆氮摩尔比随着基片偏压的增大先增大后减小，在-50 V时达到最大.

关键词： 氮化锆 薄膜 电弧离子镀 基片偏压 微结构

作者: 张敏 胡小刚 杨晓旭 徐菲菲 金光浩 邵志刚

作者单位: 辽宁师范大学物理与电子技术学院,大连116029;中国科学院大连化学与物理研究所燃料电池系统与工程实验室,大连116023 辽宁师范大学物理与电子技术学院,大连116029 国立釜山大学材料科学与工程学院,釜山609-735 中国科学院大连化学与物理研究所燃料电池系统与工程实验室,大连116023

会议类型: 国际会议

会议名称: 2012 Postdoctoral Symposium of China on Materials Science & Engineering -- Advanced Materials for Sustainable Development (2012 年中国博士后材料科学与工程学术论坛--先进材料与可持续发展)

会议地点: 上海

会议语种:英文

页码: 410-414

在线出版日期: 2012-10-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）