静态光散射颗粒度分布分析与动态光散射颗粒度分析在纳米材料研究和应用

摘要：

探讨相对于衍射理论为什么采用全程Mie氏散射理论在小粒子测量中的必要性 并探讨静态光散射与动态光散射在纳米颗粒分布测量中的新应用 HORIBA最新的静态光散射原理分析仪LA-950V2 和LB-550 在纳米领域中的表现

作者: 周炎民

作者单位: Horiba 北京分析中心

会议类型: 国际会议

会议名称: 第六届中国国际纳米科技研讨会

会议地点: 成都

会议语种:中文

在线出版日期: 2007-11-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）