A New Generation of Low Resistivity Si Wafers for PowerMOSFET Applications.

作者: Rupert Krautbauer Witold Jeske

作者单位: Siltronic Corporation 7200 NW Front Ave.M/S 10 Portland, OR 97210-3676, USA

会议类型: 国际会议

会议名称: PCIM China 2006(International Conference Power Electronics)(2006年中国电力电子技术国际会议)

会议地点: 上海

会议语种:英文

页码: 85-89

在线出版日期: 2006-03-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）