Feasibility Study of Solid-phase Epitaxial Regrowth (SPER) as an Ultra-shallow Junction (USJ) Technology for High-performance CMOS Devices

作者: T.Miyashita K.Ookoshi K.Okabe H.Minakata K.Suzuki T.Aoyama

作者单位: Fujitsu Laboratories Ltd. Fujitsu Limited, 50 Fuchigami, Akiruno, Tokyo 197-0833, Japan

会议类型: 国际会议

会议名称: The Sixth International Workshop on Junction Technology(第六届国际结技术研讨会)

会议地点: 上海

会议语种:英文

在线出版日期: 2006-05-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）