The development of high power discharge produced plasma EUV sources for next generation of the semiconductor chip manufacturing

会议类型: 国际会议

会议名称: ⅩⅥ International Conference on Gas Discharges and their Applocations（第16届气体放电及其应用国际会议）

会议地点: 西安

会议语种:英文

页码: 853-856

在线出版日期: 2006-09-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）