Si-SiO2 interface passivation by plasma NH3 and atomic H

会议类型: 国际会议

会议名称: 2006 Beijing International Materials Week —— International Conference on New Energy Materials

会议地点: 北京

会议语种:英文

页码: 146-149

在线出版日期: 2006-06-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）