Real Time Plasma Etch Control Using Optical Emission Spectroscopy

会议类型: 国际会议

会议名称: 第一届国际测试自动化与测量仪器学术会议（the First International Symposium on Test Automation & Instrumentation）

会议地点: 北京

会议语种:英文

页码: 625-628

在线出版日期: 2006-09-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）