Novel pure organic particles for Copper CMP at Low Down Force using various polishers

会议类型: 国际会议

会议名称: semicon china 2004 chemical mechanical polishing technology

会议地点: 上海

会议语种:英文

在线出版日期: 2004-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）