单晶蓝宝石基片超精密抛光技术研究进展
介绍了作为LED衬底材料使用的蓝宝石基片抛光方法的进展.通过各种抛光技术所依靠的机械能、化学能、复合能和特种能场等的不同能场形式分析了当前不同蓝宝石基片抛光技术,如浮法抛光、磁流变抛光、水合抛光、化学机械抛光和激光抛光等的工艺原理和技术特点,指出当前现有加工方法的优缺点和发展进程.目前蓝宝石衬底的抛光质量已达到表面粗糙度为0.1nm,平面度为0.5um.随着机械表面界面科学和加工工艺的不断进步,数字化、全自动和环境友好型的抛光技术是未来蓝宝石衬底加工的发展方向.
蓝宝石基片 抛光工艺 表面粗糙度 质量控制
罗求发 陆静 徐西鹏
华侨大学脆性材料加工技术教育部工程研究中心 厦门361021;华侨大学制造工程研究院 厦门361021
国内会议
广西柳州
中文
39-44
2015-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）