近红外截止滤光膜(IR-CUT)的设计与镀制

摘要：

针对近红外截止滤光膜具有通带波段内平均透射率高,抑制带截止深度深,波纹系数小,可适应复杂环境条件,具有高稳定性和高可靠性等特点,论述了近红外截止滤光膜的设计原则和方法,采用IAD等离子体辅助沉积工艺,镀制红外截止滤光膜,论证了等离子体辅助沉积工艺有利于改善近红外截止滤光膜层的显微结构和残余应力消除”.

关键词： 近红外截止滤光膜 等离子体辅助沉积 显微结构 透射率 残余应力

作者: 杨伟声

作者单位: 昆明物理研究所,云南 昆明 650223

会议类型: 国内会议

会议名称: 2017年光学技术研讨会暨交叉学科论坛

会议地点: 昆明

会议语种:中文

页码: 1-5

在线出版日期: 2017-09-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）