硼掺杂金刚石膜的制备及电化学性能研究
采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,以氧化硼-乙醇溶液作为硼源,成功制备出硼掺杂金刚石膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、激光拉曼光谱(Laser Raman spectroscopy)、电化学工作站对其表面形貌、晶体结构、薄膜质量、电化学性能进行了系统的研究.实验结果表明:随着硼元素含量的增加,金刚石膜的晶体颗粒尺寸先减小后增大,电势窗口大小由3.1V降至2.6V,阳极电流密度由0.0227mA/·cm-1降至0.0119mA/·cm-1,但对背景电流及电化学可逆性几乎不影响.
硼掺杂金刚石膜 微波等离子体化学气相沉积 表面形貌 晶体结构 薄膜质量 电化学性能
王梁 江彩义 郭胜惠 高冀芸 胡途 杨黎 彭金辉 张利波
超硬材料先进制备技术国际联合研究中心,昆明理工大学,昆明,650093;非常规冶金教育部重点实验室,昆明理工大学,昆明,650093 超硬材料先进制备技术国际联合研究中心,昆明理工大学,昆明,650093;微波能工程应用与装备技术国家地方联合工程实验室,昆明理工大学,昆明,650093;非常规冶金教育部重点实验室,昆明理工大学,昆明 云南民族大学化学与环境学院,云南民族大学,昆明,650031 微波能工程应用与装备技术国家地方联合工程实验室,昆明理工大学,昆明,650093;非常规冶金教育部重点实验室,昆明理工大学,昆明,650093
国内会议
贵阳
中文
42-49
2016-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）