基于等离子体光谱反馈的磁控反应溅射控制系统设计
利用光谱传感及气压、电压反馈技术为控制手段外发一种用于微纳制造的磁控反应溅射过程中以表征光谱为重点监控对象的新型等离子体控制系统.其基于对阴极靶材等离子表面状态的监控,通过抑制反应气体流量或分压强的变化引起的溅射过程的波动,稳定薄膜沉积速率,提高膜厚监控精度.通过优化反应中频磁控滅射和等离子体辅助工艺参数,以高蒸发速率镀制低损耗、高品质的薄膜,最终开发出为磁控溅射在线检测和实时监控提供多模态监控技术和新工艺的新型等离子体控制系统.
等离子体控制系统 硬件电路 软件开发 磁控反应溅射
卫红 刘志宇 王小辉 曹一鸣 邵义文 行联合 莫忠
广州市光机电技术研究院 广州生物工程中心
国内会议
广州
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247-251
2016-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）