不同硅烷修饰的MFI分子筛膜及其H2/CO2分离性能
通过NH4+离子交换的方法获得了HMFI分子筛膜,采用在线化学气相沉积法(CVD)对其进行晶内孔道修饰,以提高其对H2的分离选择性.实验考察了四乙氧基硅烷(TEOS)、甲基二乙氧基硅烷(MDES)和三甲基乙氧基硅烷(TMES)3种不同尺寸修饰源对膜性能的影响.结果 表明,尺寸较小的TMES更容易扩散进入分子筛膜的晶内孔道,从而获得了更优的H2/CO2分离性能,修饰后的膜在500℃下H2/CO2的分离因子可达45.9,H2的渗透性为1.43× 10-7mol/(m2·s·Pa).同时,通过质谱(MS)分析了TMES在HMFI分子筛孔道中的裂解行为,探讨了硅烷修饰的的沉积机理.
MFI分子筛膜 硅烷修饰 沉积机理 分离性能
陈冬冬 张春 洪周 顾学红
南京工业大学化学化工学院,材料化学工程国家重点实验室,南京210009
国内会议
中国工业气体工业协会第26次会员代表大会暨中国气体产业变革与行业管理体系改革研讨会
银川
中文
178-184
2016-09-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）