离子束溅射沉积薄膜技术特点探讨

摘要：

离子束溅射技术是近些年发展起来的制备高质量薄膜的一种非常重要的方法,它具有其它制膜技术无法比拟的优点,在制膜过程中,由于沉积速度慢,膜的厚度及质量容易控制.本文主要介绍离子束溅射技术的原理、基本规律及应用前景.

关键词： 薄膜材料 离子束溅射 溅射阈能 溅射产额

作者: 唐俐 黎启胜 王小龙 王军

作者单位: 中国工程物理研究院总体工程研究所 四川 绵阳 621900

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十八届电子信息技术学术年会

会议地点: 广州

会议语种:中文

页码: 305-309

在线出版日期: 2016-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）