无取向硅钢摇片性影响因素研究
研究了无取向硅钢EI片黑片摇片性的影响因素及机理.研究表明,EI片去应力退火后的氧化程度越大,黑片的摇片性越差,原因是氧化加剧了EI片的表面摩擦力;钢片本身涂层的组分、基体的退火工艺对黑片摇片性也有显著的影响,基体可生成氧化层的退火工艺可改善摇片性,原因是表面形成的氧化层可抑制基体在去应力退火中氧化;不含树脂的环保涂层可改善摇片性,原因是其退火后涂层结构保持更良好,有利于抑制退火摩擦力的提高.
硅钢片 退火工艺 摇片性 表面氧化层
朱玉秀 刘中华 于浩淼 刘磊 胡志远 滕仁昊
北京首钢股份有限公司硅钢事业部,河北省迁安市064400
国内会议
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207-212
2016-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）