多晶硅片效率提升方向探讨
本文阐述了多晶硅片效率提升方向,降低多晶硅片电阻率,收窄电阻率分布有助于提升PERC工艺下转换效率;合适的电阻率匹配不仅可以提升转换效率,也可以降低PERC工艺光衰,控制金属杂质,降低位错是提高转换效率的主要路径,控制金属杂质对降低光衰也有助益,金刚线切割和砂浆线切割的清洗有很大不同,改善清洗可以提升效率。
硅太阳能电池 电阻率 位错控制 清洗工艺
张振中 常传波 席珍强 唐骏
荣德
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2018-11-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)