新型氧化硅钝化特性研究

摘要：

衬底采用N型双面抛光单晶硅片，新型氧化硅：拥有光明的应用前景，新型氧化硅钝化效果十分优异SiOx1250μs SiOxAlOx2200μs，制备工艺简单，无需高温，提高制备效率，从制备方式上实现量产，进一步优化钝化效果。

关键词： 氧化硅 钝化特性 制备工艺

作者: 龚磊

作者单位: 中国科学院电工研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 2018 年第十四届中国太阳级硅及光伏发电研讨会

会议地点: 南昌

会议语种:中文

页码: 1-16

在线出版日期: 2018-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）