一步法黑硅制绒工艺新进展

摘要：

硅表面减反射结构降低光学损失—表面制绒单晶硅制绒多晶硅制绒硅表面减反射结构两次反射折射率渐变单晶无金属多晶有金属工艺切换复杂倒金字塔制绒理想结构:同时适用于单晶和多晶低反射,易钝化,低成本。

关键词： 黑硅 制备工艺 反射结构 光学性能

作者: 吴俊桃 刘尧平 陈伟 赵燕 陈全胜 林珊 唐旱波 王燕 杜小龙

作者单位: 中国科学院物理研究所 北京普扬科技有限公司 松山湖材料实验室

会议类型: 国内会议

会议名称: 2018 年第十四届中国太阳级硅及光伏发电研讨会

会议地点: 南昌

会议语种:中文

页码: 1-19

在线出版日期: 2018-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）