不同氧化剂下ALD沉积Al2O3性能差异研究

摘要：

事实上,由于Al2O3突出的表面钝化效果,很多高转换率的硅电池都采用了Al2O3钝化层.原子层沉积(ALD , Atomic LayerDeposition)是一种新兴的半导体薄膜制备技术。H2O-ALD工艺沉积的Al2O3薄膜每循环生长速率更快;O3-Al2O3薄膜中C含量更高和H含量略低;O3基和H2O基Al2O3薄膜分别经过420 ℃和400 ℃的中等温度退火处理后，化学钝化效果和场效应钝化效果都有了显著提升;而在高温烧结后，O3-Al2O3薄膜显示出了更佳的热稳定性。

关键词： 硅太阳能电池 氧化铝薄膜 原子层沉积 钝化效果 热稳定性

作者: 许佳辉

作者单位: 华东理工大学

会议类型: 国内会议

会议名称: 2018 年第十四届中国太阳级硅及光伏发电研讨会

会议地点: 南昌

会议语种:中文

页码: 1-17

在线出版日期: 2018-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）