光栅制造及光谱仪器技术研究

摘要：

介绍了光栅制造技术研究、光栅应用-光谱仪器技术研究、研究展望:指出大面积、高精度是光栅发展的方向之一，具有重大的需求。特指光栅宽度达到450mm以上，刻槽精度达到3600gr/mm以上的光栅，大面积可获得卓越的聚光能力和分辨本领，高精度意味着获得卓越的信噪比和波前质量。

关键词： 光栅 制造工艺 刻槽精度 聚光能力 信噪比 光谱仪器

作者: 冯树龙

作者单位: 中科院长春光机所

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国-国际三十米望远镜天文台合作会议(TMT WFOS China Partnership meeting)

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 1-51

在线出版日期: 2017-10-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）