携手提升中国半导体IC先进制造工艺

摘要：

文章介绍了中国IC制造业的机会，阐明光刻技术是实现晶体管微缩的关键，其就像照片放大机的原理，光刻技术将IC电路图印在晶圆上。

关键词： 半导体芯片 光刻技术 摩尔定律

作者: 金泳璇

作者单位: ASML中国分公司

会议类型: 国内会议

会议名称: 2016中国集成电路产业发展研讨会暨第十九届中国集成电路制造年会

会议地点: 厦门

会议语种:中文

页码: 10-25

在线出版日期: 2016-09-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）