基于瞳面干涉的自参考干涉仪的研制
为了用更简单的光学器件使对准标记产生的衍射光实现重叠干涉,同时能够降低对准系统的加工和装调难度,设计了基于瞳面干涉的自参考干涉仪系统.首先,对当前光刻机所使用的对准技术展开研究,以光栅衍射原理和偏振光学为理论基础,提出了用Koster棱镜作为合光器件的自参考干涉仪,最后使用线阵CCD收集信号并将数据用计算机做后续的位置信息处理.由于自参考干涉仪测量系统是以光栅的栅距作为测量基准,而不是使用激光波长,故测量系统受环境因素造成的测量误差影响较小.实验结果表明:系统分辨率为0.2nm,使得该系统可以达到纳米级分辨率.证明了所设计的干涉仪可用于目前前道光刻机的对准系统,实现纳米级精度的对准测量,从而使光刻设备的套刻精度满足最新工艺节点的要求.
自参考干涉仪 信号收集 光栅栅距 误差控制
罗佳林 许琦欣 侯文玫 金涛
上海理工大学光电信息与计算机工程学院 上海 200093
国内会议
南京
中文
74-77
2016-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）