直接覆铜陶瓷板界面及其高温行为研究
本研究利用大电流高密度等离子体溅射沉积技术,在Al2O3和AlN陶瓷板的表面沉积不同的过渡层和铜层,经电镀将真空溅射铜层进行加厚,实现陶瓷基板金属化.通过界面结合强度测试,分析了不同过渡层对界面结合强度的影响;利用SEM、DTA、XRD等研究了直接覆铜陶瓷板截面形貌及在高温退火后的界面行为.结果表明,与无过渡层和AlOx过渡层相比Cr、Ti可大幅度提高界面粘附强度,在550℃退火后Cr和Ti在界面处和铜层发生合金化作用,甚至生成金属间化合物,Cr和Ti元素与Al2O3和AlN基体以及铜层具有强的相互作用,过渡层的引入可大幅度提高覆铜层和陶瓷的结合强度,从而有效提高陶瓷覆铜板的使用可靠性.
直接覆铜陶瓷基板 金属化工艺 等离子体溅射沉积 界面结合强度 可靠性
张珊珊 杨会生 颜鲁春 庞晓露 高克玮 李磊 李中正
北京科技大学,北京100083 临淄市临淄银河高技术开发有限公司,山东淄博255400
国内会议
全国电子陶瓷、陶瓷—金属封接第十六届会议暨真空电子与专用金属材料分会2016年年会
江苏无锡
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2016-09-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）