大功率、深层i线光刻技术研究

摘要：

本文介绍了一种用于制作微电子、微机械和微光学器件的高分辨力、大视场、大焦深和高功率的Ⅰ线接近式曝光系统,重点讨论用多点光源平滑衍射效应和实现大视场高均匀性照明的工作原理、线条陡度增强技术;曝光间隙的精确设定和高微动分辨力对准台的基本结构.

关键词： 复眼照明 曝光系统 光刻技术 微电子机械系统

作者: 胡松

作者单位: 中国科学院光电技术研究所(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第四届全国微米/纳米技术学术会议

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 56-58

在线出版日期: 2000-06-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）