电真空器件中涡流对短脉冲磁场分布的影响及抑制方法研究

摘要：

本文针对电真空器件中使用短脉冲磁场时涡流对磁场分布的影响进行了研究,分析了磁场电流脉冲宽度、金属电导率和金属厚度等对涡流的影响,并对抑制涡流的方法进行了计算和分析,结果表明,采用对高电阻率导体进行薄层良导体电镀和对金属纵向切槽开缝均可有效抑制涡流对器件内部磁场分布的影响.

关键词： 电真空器件 短脉冲磁场 涡流 导体电阻率 薄层电镀 纵向切槽

作者: 马国武 胡林林 宋睿 孙迪敏 陈洪斌

作者单位: 中国工程物理研究院应用电子学研究所,绵阳市919信箱1014分箱 621900

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国电子学会真空电子学分会第二十届学术年会

会议地点: 厦门

会议语种:中文

页码: 1-6

在线出版日期: 2016-08-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）