会议专题

基于光机械多探针原理的广域薄膜表面形貌测量方法研究

光刻技术在半导体产业微细化,高集成化进程中有着极其重要的作用,本项目的研究就是针对下一代短波光刻技术中必不可少的光刻胶薄膜表面形貌的高速、高精度测量所提议的新一代测量理论及测量方法的研究.本项目的研究目的是提出并建立广域光刻胶表面形貌的高精度测量理论和方法,设计制作二维网格状探针,研究光-二维网格多探针传感器的扫描型测量方法及多点测量误差分离理论,实现光刻胶表面的高精度,高速形貌测量.

光刻胶薄膜 表面形貌 高精度测量 多探针传感器

刘淑杰

大连理工大学

国内会议

第十二届设计与制造前沿国际会议(ICFDM2016)

沈阳

中文

344-344

2016-08-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)