ZnO磁控溅射靶材及其在玻璃镀膜中的应用

摘要：

近年来,磁控溅射沉积的ZnO薄膜在光电器件镀膜领域得到广泛的应用,ZnO磁控溅射靶材是沉积ZnO薄膜的关键耗材.本文针对镀膜行业发展对ZnO陶瓷溅射靶材的制造所提出的挑战,从优质材料制备的角度出发,介绍宁波森利电子材料有限公司在ZnO陶瓷溅射靶材领域所开展的工作.此外,针对在光伏、显示器件以及智能玻璃镀膜中的应用,简要介绍镀膜过程中影响ZnO薄膜光电性能的主要参数、ZnO薄膜结晶质量与载流子浓度的调控手段以及作为替代ITO的透明电极应用在智能玻璃器件中的可行性.

关键词： 氧化锌半导体薄膜 制备工艺 光电性能 结晶质量 载流子浓度 玻璃镀膜

作者: 杨晔 兰品军 王木钦 温艳玲 朱永明 李佳 宋伟杰

作者单位: 宁波森利电子材料有限公司 宁波 315171;中国科学院宁波材料技术与工程研究所 宁波 315201 宁波森利电子材料有限公司 宁波 315171 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 宁波 315201

会议类型: 国内会议

会议名称: 2016年中国玻璃行业年会暨技术研讨会

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 119-127

在线出版日期: 2016-03-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）