UV-B增强下施硅对水稻根际土壤甲烷产生潜力的影响

摘要：

通过田间模拟试验,研究了UV-B辐射增强下施用不同硅肥对水稻根际和非根际土壤甲烷(CH4)产生潜力影响.UV-B辐射设2个水平,即对照(A,自然光)和增强20％(E).硅肥设3个水平,即Si0(不施硅,SiO20kg/hm2)、Si1(硅酸钠,SiO2200kg/hm2)和Si2(钢渣硅肥,Si02200kg/hm2).结果表明,各处理水稻根际土甲烷产生潜力大于非根际土甲烷产生潜力.UV-B增强可提高根际和非根际土壤的甲烷产生潜力,施硅(Si1、Si2)可降低水稻根际土甲烷产生潜力,但对非根际土甲烷产生潜力的影响因生育期而异.在抽穗扬花期期扬花期,施硅(Si1、Si2)对非根际土甲烷产生没有明显抑制作用,Si1促进了非根际土甲烷产生;在灌浆完熟期,施硅(Si1、Si2)对根际和非根际土甲烷产生均有抑制作用.

关键词： 水稻 施肥模式 紫外线照射 根际土 甲烷产生潜力

作者: 娄运生 孟艳 吴蕾

作者单位: 南京信息工程大学气象灾害预报预警与评估协同创新中心,南京210044;南京信息工程大学江苏省农业气象重点实验室,南京210044 南京信息工程大学江苏省农业气象重点实验室,南京210044

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国土壤学会第十三次全国会员代表大会暨第十一届海峡两岸土壤肥料学术交流研讨会

会议地点: 陕西杨凌

会议语种:中文

页码: 76-82

在线出版日期: 2016-09-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）