强磁场退火对Co/Cu/Co三层膜互扩散和磁性能影响

摘要：

Co/Cu组成的磁性多层膜由于在磁记录和磁传感器方面的应用已经引起了国内外广泛关注.大量研究表明互扩散会影响薄膜的磁性能.本工作将强磁场施加在Co/Cu/Co三层膜退火过程中,研究强磁场对薄膜互扩散和磁性能的影响.结果表明，在400 ℃退火过程中施加11.5T强磁场会改变Co/Cu/Co三层膜的互扩散距离和合金化程度，可以降低饱和磁化强度、减小矫顽力。但是，在300℃和500 ℃退火时，强磁场对扩散和磁性能几乎没有影响。

关键词： 钴铜钴三层膜 退火工艺 磁场强度 扩散性能 磁性能

作者: 王凯 赵越 李国建 石雅琪 吴纯 王强

作者单位: 东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室,沈阳110819

会议类型: 国内会议

会议名称: 第三届全国电磁冶金与强磁场材料科学会议

会议地点: 河南焦作

会议语种:中文

页码: 24-24

在线出版日期: 2016-08-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）