单晶硅表面摩擦诱导化学磨损的行为、机理及控制研究
纳米切削和纳米抛光的关键在于揭示原子尺度材料的去除机理,而纳米压印和纳米铸造则需有效地解决无磨损条件下的脱模问题.因此,微观磨损不仅是MEMS应用中的关键问题,更已成为纳米制造的共性基础问题.然而,相对于机械磨损,摩擦化学反应所引发的磨损常常在材料的微观磨损过程中起主导作用.为此,本项目系统开展了单晶硅表面摩擦诱导化学磨损的行为、机理及控制研究.相关成果不仅可以丰富纳米制造的基础理论,而且也有助于推动MEMS的实用化进程.
单晶硅 表面处理 磨损机理 摩擦学性能
钱林茂
西南交通大学
国内会议
沈阳
中文
388-388
2016-08-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）