磁控溅射工艺参数对涤纶机织物基纳米金属薄膜抗静电性能的影响

摘要：

在室温条件下采用磁控溅射技术在涤纶机织物表面沉积金属薄膜,利用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观察纳米金属薄膜的表面形貌,通过分别改变磁控溅射工艺参数溅射时间、溅射功率和气体压强,研究其对试样抗静电性能的影响.实验结果表明,溅射时间和溅射功率对镀金属薄膜试样的抗静电性能均影响较大,而气体压强影响相对较小.溅射时间40min、溅射功率120W、气体压强1.6Pa工艺条件下,镀Cu膜试样的抗静电性能最好;溅射时间40min、溅射功率120W、气体压强1Pa或1.6Pa工艺条件下,镀银膜试样的抗静电性能最好,而且镀Ag比镀Cu薄膜试样的抗静电性能优异.

关键词： 涤纶机织物 纳米金属薄膜 磁控溅射 抗静电性能

作者: 袁小红 陈东生

作者单位: 闽江学院服装与艺术工程学院

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十四届福州市科协年会

会议地点: 福州

会议语种:中文

页码: 31-36

在线出版日期: 2016-09-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）