850nm聚合物波导2×2MMI光耦合器优化设计
850nm波段聚合物波导以成本低、损耗小等优势在光学生化检测领域具有广阔的应用.本论文基于聚合物PSQ-Ls材料和微纳米压印制备工艺,对850nm多模干涉(MMI)结构2×2光波导耦合器进行了优化设计.采用RSoft软件的BPM仿真模块分析了输入/输出波导单模条件、波导间距,以及多模波导的宽度、长度等结构参数对2×2耦合器的附加损耗和不均衡度的影响.通过在单模波导与多模波导连接处引入等腰梯形的渐变结构,获得了低附加损耗、高均衡度的优化结构参数,设计得到器件的附加损耗和不均衡度分别为-0.040dB和-0.007dB.讨论并分析了在微纳米压印工艺中不同残留层厚度的条件下,制备尺寸偏差对器件性能的影响,研究结果为器件制备提供了有益参考.
光耦合器 优化设计 附加损耗 不均衡度
邵宇辰 韩秀友 韩笑男 陆志理 滕婕 武震林 王锦艳 赵明山
大连理工大学物理与光电工程学院大连 116024 中电集团38所,合肥,230088 大连理工大学化工学院大连 116024
国内会议
重庆
中文
102-114
2015-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）