X射线光刻技术研究
下一代光刻技术（ＮＧＬ）研究和选择已经成为当前半异体制造行业最为引人关注的热点问题。在这些技术之中，Ｘ射线光刻技术被认为是最接近于实用要求的一种。目前国际上关于Ｘ射线光刻技术被认为是最接近于实用要求的一种。目前国际上关于Ｘ射线光刻技术的研究已经集中在大规模生产的实用化问题上，同时，应用于微波毫米波单片集成电路（ＭＭＩＣ）制造正成为一种新趋势。尽管与国际水平存在着巨大的差距，但经过多年的积累，国内的Ｘ射线光刻技术研究正在走出单项研究的局面，逐浙形成了以０．１５微米及以下尺寸技术要求为目标的一套研究体系，面临着整体水平的技术突破。
X射线光刻 掩模 SiN<,X> 对准台 MMIC
叶甜春 谢长青 陈大鹏 李兵 刘训春
科学院微电子中心(北京)
国内会议
大连
中文
360～363
1999-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）