国内Ｘ射线光刻技术研究进展
下一代光刻技术（ＮＧＬ）研究和选择已经成为当前半导体制造行业最为引人关注的热点问题。在这些技术之中，Ｘ射线光刻技术被认为是最接近于实用要求的一种。目前国际上关于Ｘ射线光刻技术的研究已经集中在大规模生产的实用化问题上，同时应用了微波毫米波ＭＭＩＣ电路制造正成为一种新趋势，尽管与国际水平存在着较大的差距，但经过多年的积累，国内的Ｘ射线光刻技术研究正在走出单项研究的局面，逐渐形成了以０．１微米及以及尽雨技术要求为目标的一套研究体系，面临着取得整体水平的技术突破。
Ｘ射线光刻 掩模 ＳｉＮ 对准台 ＭＭＩＣ
叶甜春 谢长青 陈大鹏 李兵 王继红 刘训春
科学院微电子中心 科学院微电子中心(北京) 科学院光电技术研究所
国内会议
长沙
中文
379～382
1999-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）