Application of catalytic chemical vapor deposition to the fabrication process of high-efficiency crystalline silicon solar cells

摘要：

Cat-CVD Decomposition of gas molecules on a heated catalyzing wire Plasma-damage-less deposition?High-quality passivation layers for c-Si Catalytic impurity doping(Cat-doping) Catalytic impurity doping

作者: K.Ohdaira Trinh Cham Thi S.Tsuzaki T.Oikawa J.Seto K.Koyama H.Matsumura

作者单位: Japan Advanced Institute of Science and Technology

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届全国太阳级硅及光伏发电研讨会

会议地点: 徐州

会议语种:英文

页码: 1-22

在线出版日期: 2017-11-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）