Development of Acid Etching Agent for Multi-Si DWS Wafer

摘要：

Outline 1) Etching of DWS wafer ·Difficulty of texturing(DWS) ·Etching(Texturing) progressing behavior ·Etching mechanism 2) The feature of settsu”s additives ·Low reflectance( ＜ Slurry) ·Good appearance ·Better Isc.·Better Eff(18.60 ％)

作者: Kazuhiro Moriwaki Hiroki Kawashima Yukiyasu Terao Yuzo Yamamoto

作者单位: SETTSU OIL MILL,INC.,Japan

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届全国太阳级硅及光伏发电研讨会

会议地点: 徐州

会议语种:英文

页码: 1-18

在线出版日期: 2017-11-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）