迅立光电设备有限公司隆重推出100兆瓦晶硅背钝化设备

摘要：

设备总览及特点该设备简洁紧凑,运行高效稳定,可实现目标节拍27秒,薄膜厚度均匀性5％,该连续式PECVD设备,能一次性完成ALOx和SINx的背钝化镀膜工艺,形成3200片/小时的高效太阳能电池生产能力,达100MW的年产能.专利设计“GAS ISOLATION”可以在同一真空腔室内连续完成两种或三种膜层沉积，而不需要机械式门阀隔离不同工艺。

关键词： 硅晶体 背钝化设备 镀膜工艺

作者: 邓勋明

作者单位: 迅立光电设备有限公司

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届中国太阳级硅及光伏发电研讨会

会议地点: 浙江嘉兴

会议语种:中文

页码: 1-16

在线出版日期: 2016-11-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）